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生産・プロセス技術の現在掲載中の転職・求人情報

プロセス開発の過去の転職・求人情報概要(掲載期間: 2006/11/28 - 2006/12/25)

プロセス開発
正社員学歴不問上場企業
フラッシュメモリ以外にも、世界に誇れるものがある。
東芝と言えば、フラッシュメモリ・・・と思われる方は多いはず。
でも、世界に誇れる技術はそれだけじゃありません。

たとえば・・・
注目度の高いパワーモジュール“ハイブリッドカー用次世代IGBT”、
話題の“次世代DVD用青紫LD”、将来電球に置き換わるであろう
“照明用青色LED向けGaN・InGaN系薄膜形成”など。
既にこれらフラッシュメモリ以外の分野でも当社技術が注目され、
有力自動車メーカーへの採用やHD-DVDへの搭載も計画されています。

さらに、世界に先駆けて微細化検討もスタート。
2003年春に90nmプロセス製品を量産化。次世代65nmプロセス製品
についても、世界で最も早く量産を開始する計画です。

『最先端のプロセス開発に携わることで、技術を追求したい』あなた。
『言われた仕事をやるだけではなく、技術の本質を見つめ直したい』と
いうあなたも。

常に先を見続ける“東芝”で、プロセス開発をはじめてみませんか。

募集要項

仕事内容
プロセス開発
成長著しい分野で、ご活躍いただけます。

HEV用次世代IGBT、青紫LD/青色LED用エピタキシャル成長技術、メモリ絶縁膜のうち、あなたの経験・能力を考慮した上でいずれかのプロセス開発をお任せします。具体的には以下をご覧ください。

◆HEV(ハイブリッドカー)用次世代IGBTプロセスインテグレーション技術の開発
IGBTなどの高電流密度/高温で動作する次世代ディスクリートパワー半導体を安定的に量産化する技術に注力してください。今後、最も注目度の高い分野です。

◆GaN・InGaN系エピタキシャル成長プロセス開発
次世代DVDや電球置換の照明などに使われる青紫LD/青色LED。装置メーカーと連携しながら、薄膜形成のプロセス開発を進めます。
応募資格 【下記の◆2つを満たす方】
◆半導体プロセス技術の専門知識
◆チームリーダとなる意欲をお持ちであること
募集背景 業務拡大につき、中途採用を強化します。

HEV用IGBT等パワー半導体のプロセスインテグレーション、次世代DVDや照明等に使われる青紫LD/青色LEDの薄膜形成プロセス等、最先端技術を開発し続ける“プロセス技術推進センター”。今後、高電流密度/高温で動作するパワートランジスタや高発光効率の光デバイスを量産化できる技術を中心に突き進みます。
雇用形態 正社員
勤務地・交通
プロセス技術推進センター/神奈川県横浜市、川崎市
交通
横浜/JR京浜東北線「新杉田駅」より徒歩7分
川崎/JR各線「川崎駅」よりバス10分
勤務時間 フレックスタイム制
標準労働時間1日7時間45分
※コアタイムは、配属先により異なります。
給与 固定給制 月給20万1000円以上
※上記はあくまでも、2004年度大卒初任給です。経験・能力を考慮した上で、決定します。
休日休暇 完全週休2日制(土・日)、祝日、年末年始、有給休暇(初年度18日)、結婚休暇、育児休暇、ステップアップ休暇 ※年間休日120日以上
福利厚生・待遇 昇給年1回(4月)、賞与年2回(6・12月)、交通費全額支給、住宅費補助、社会保険完備、住宅融資制度、保養所・総合病院・各種体育施設、独身寮、社宅

会社概要株式会社東芝(東証一部上場)

会社名 株式会社東芝(東証一部上場)
創業 1875年(明治8年)7月
代表者 取締役会長 代表執行役社長 室町 正志
資本金 4399億円
従業員数 36754名
売上高 3兆2945億円(2014年3月期実績)
事業内容 電子デバイス、デジタルプロダクツ、社会インフラ等の各種システム・機器・サービスの開発・製造・販売
事業所 ■国内:
本社/東京、支社・支店・営業所/37ヶ所、研究所等/8ヶ所、工場等/17ヶ所

■海外:
海外事務所、海外現地法人など
企業ホームページ http://www.toshiba.co.jp/
個人名の表記について
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